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PlasmaX-Lab 全能型實(shí)驗(yàn)等離子表面處理設(shè)備

簡(jiǎn)介：

PlasmaX-Lab是一款專為精密表面工程設(shè)計(jì)的高端等離子表面處理設(shè)備，具備卓越的性能與靈活性，滿足高精度處理要求。其450 x 300 x 300 mm的鋁質(zhì)構(gòu)造反應(yīng)艙配備可視窗口，提供40.5升的處理空間，適應(yīng)廣泛的實(shí)驗(yàn)需求。采用獨(dú)特的二級(jí)等離子設(shè)計(jì)和水冷電極，確保處理過(guò)程中的均勻性和效率。

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產(chǎn)品介紹規(guī)格參數(shù) 應(yīng)用領(lǐng)域

產(chǎn)品介紹

PlasmaX-Lab全能型實(shí)驗(yàn)等離子表面處理設(shè)備，是一款專為精密表面工程設(shè)計(jì)的高端工具。其鋁質(zhì)構(gòu)造的450 x 300 x 300mm反應(yīng)艙配備可視窗口，提供40.5升的寬敞處理空間，支持大范圍的實(shí)驗(yàn)需求。采用獨(dú)特的二級(jí)等離子設(shè)計(jì)和水冷電極，PlasmaX-Lab保證了處理過(guò)程中的極致均勻性和效率，滿足了高精度表面處理的嚴(yán)格要求。

該設(shè)備搭載高效的螺桿真空泵和精確的薄膜規(guī)真空計(jì)，能快速達(dá)到所需的處理環(huán)境，同時(shí)保證過(guò)程中的穩(wěn)定性。其PLC控制系統(tǒng)通過(guò)觸摸屏操作，提供自動(dòng)化處理流程、精確監(jiān)控和參數(shù)調(diào)整能力，大大提高了操作便利性和處理的可重復(fù)性。PlasmaX-Lab還支持雙氣體輸入，配有先進(jìn)的氣體流量控制器和液體輸入系統(tǒng)，確保了處理過(guò)程的靈活性和多樣性。

此外，PlasmaX-Lab強(qiáng)調(diào)安全性能，配備急停開關(guān)以應(yīng)對(duì)緊急情況，確保使用過(guò)程中的安全。其380V AC, 50HZ, 40A的電源需求，配合0~300W可調(diào)的頻射發(fā)生器，使得該設(shè)備不僅適用于多種材料處理，同時(shí)也兼顧環(huán)保和能效。

PlasmaX-Lab 處理艙

PlasmaX-Lab 等離子放電觀測(cè)

規(guī)格參數(shù)

反應(yīng)艙	材料：特種鋁，厚度：20 mm
	有效尺寸：450 x 300 x 300 mm
	容積：40.5升
	艙門：裝有可視窗口
	電極：二級(jí)等離子設(shè)計(jì)，保證單層均勻性和層間均勻性。同時(shí)包含水冷電極。
	樣品盤：1套，尺寸：350 x 250 mm
真空度測(cè)量	皮拉尼真空計(jì)+薄膜規(guī)真空計(jì)，保證真空度測(cè)量精度
真空泵	干泵：抽速：20至80立方米/小時(shí)可選
頻射發(fā)生器	0~300W可調(diào)，MHz發(fā)生器
控制系統(tǒng)	觸摸屏操作，PLC控制系統(tǒng)
	PLC可實(shí)現(xiàn)下列功能：
	自動(dòng)控制反應(yīng)過(guò)程；
	根據(jù)處理材料設(shè)定不同的處理工藝流程；
	測(cè)定真空度、抽真空時(shí)間、充氣流速、處理時(shí)間、溫度、頻射發(fā)生器輸入功率等指標(biāo)；
	監(jiān)測(cè)所有的運(yùn)行指標(biāo)，保證在設(shè)定范圍之內(nèi)；
	設(shè)定操作、維護(hù)密碼。
電源	380V AC，50HZ，40A
反應(yīng)氣體	2個(gè)氣體輸入端口，含氣體流量控制器（MFC）
氣體輸入	直徑1/4”管道；輸入壓力：1Bar
液體輸入	包含液態(tài)單體氣化裝置，可以設(shè)定液態(tài)單體流量，氣化溫度
工藝氣體控制器	標(biāo)配2路（最多可配置5路）
工藝單體輸送器	標(biāo)配1路，可選擇超疏水單體或超親水單體（可配置2路）
尾氣排放	包含尾氣輸出端口
安全性能	急停開關(guān)

應(yīng)用領(lǐng)域

設(shè)備功能：

─ 等離子清洗

─ 等離子活化

─ 等離子表面枝接

─ 等離子鍍膜：超親水鍍膜，超疏水鍍膜

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15901165991